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根据表面物理化学性质分析，期合区间经真空外光辅助沉积的PDA涂层表面形貌平整，表面粗糙度随着沉积时间的增加而增大。这些结果表明，合理真空紫外光辅助沉积的PDA涂层的优势在于避免了Zn基体的初始腐蚀，并与外部PLGA涂层提供了强大的附着力。各类格均2021年7月获新加坡国立大学国家公派留学奖学金。
目前担任中国机械学会焊接分会青年委员会、煤炭电子封装国际会议(ICEPT)技术委员会等多个学术组织的委员，IEEE高级会员(SeniorMember)。中长图4.Zn,Zn/UVPDA,Zn/PLGA,Zn/UVPDA/PLGA长期浸泡测试分析（a)SEM图像。
图8.本论文入选ACS-AMI期刊封面图片【第一作者介绍】方慧，期合区间哈尔滨工业大学材料科学与工程学院博士研究生。
与纯Zn样品相比，合理UVPDA/PLGA涂层在不同样品的不同浓度提取物培养基中培养24小时和72小时后，对SMCs增殖表现出明显的抑制作用(图6a-c)。各类格均关于基于CNN的适应度函数选择的详细讨论可以在补充材料中找到。
作为算法已进一步找到QC10并进行确认，煤炭图5B示出了在上一代期间获得的代表性照片以及相应的衍射图案。因此，中长要处理3D系统，通常需要将粒子坐标投影到具有相关对称性的平面上。
期合区间图4(B和C)分别显示了在上一代中获得的QC12的代表性照片及其衍射图。本文还获得了具有代表性的QCs照片，合理其衍射花样如图3(D至F)所示。
